在工业清洗中亚氨基二琥珀酸四钠的作用

亚氨基二琥珀酸四钠（IDS）是一种新型的氨基多羧酸螯合剂，有着很强的螯合过渡金属离子的能力，与EDTA、DTPA和NTA等同属氨基多羧酸类螯合剂，具有无磷、无毒、无公害和易生物降解的特性。在工业清洗领域也有着不少的应用场景。

1.金属清洗剂：
亚氨基二琥珀酸四钠可用于清洗金属表面，去除其表面的氧化层和污垢，提高金属表面的清洁度和光亮度。IDS还能起到缓蚀和防锈的作用，延长金属零件的使用寿命。和表面活性剂一起使用，便可取得较好的效果，用于去除金属管道网络中的铁锈及硫化铁垢，可用于锅炉、天然气管道等大型设备清洗。

2.抛光液：
化学机械抛光（CMP）是目前少数能够实现全局平坦化、提高芯片集成密度的制程操作，小型化半导体芯片大多由数层铜布线和纳米级间距构成的，通过CMP技术可以得到无缺陷的、原子化铜表面。抛光液的主要成分包括研磨颗粒、氧化剂、络合剂、抑制剂及其他用于改善应用效果的添加剂。亚氨基二琥珀酸四钠就可以用作抛光液的络合剂，可以鳌合金属离子，加快氧化物的溶解络合剂能够与金属离子络合，形成稳定且能溶于溶液中的络合物，达到加快金属溶解的效果，从而使抛光速率提高。
在铜化学机械抛光研究中，发现亚氨基二琥珀酸四钠（IDS-4Na）的加入能够使Cu表面天然氧化膜破裂，促进活性Cu的溶解，能够降低Cu腐蚀电位，增加腐蚀电流密度，加速其腐蚀。但IDS与Cu络合物水溶性一般，随时间增加，络合反应逐渐达到饱和。通过Cu静态蚀刻和化学机械抛光实验探究IDS和BTA对Cu静态下缓蚀率及动态下去除速率的影响，可得到IDS可提高Cu静态缓蚀率及动态去除率的结论。
在钴化学机械抛光研究中，IDS同样能降低Co腐蚀电位，极化曲线结果显示Co的腐蚀电流密度也得到了提高；EIS测试则显示出Co表面形成的钝化膜致密性随着IDS含量的增加而降低。并通过静态蚀刻和CMP实验验证出IDS能明显提高Co静态腐蚀速率和动态去除速率。

3.助洗剂：
同其他类型的洗涤剂一样，助洗剂在机洗餐具用洗涤剂中也必不可少，助洗剂包括螯合剂和分散剂。螯合剂的作用是与金属离子结合，使水软化，亚氨基二琥珀酸四钠（IDS-4Na）就可作为洗涤剂中的螯合剂。同时添加分散剂如聚丙烯酸钠共聚物等，可以将已经洗掉的污垢分散在水中，防止再沉积，还可以抑制结垢，阻止碳酸钙结晶生长。螯合剂、分散剂和低泡表面活性剂配合使用，可以提高餐具洗涤后的洁净度，避免污垢在餐具表面和洗碗机内壁形成白色斑点或者不透明膜。

随着社会环保意识的增强，人们对洗涤剂原料的绿色化提出了更高的需求。传统螯合剂三聚磷酸钠会造成湖泊江河的富营养化，已经逐渐被弃用，而EDTA也被认为对环境不友好。未来对环境和人体友好的绿色螯合剂将会受到欢迎，亚氨基二琥珀酸四钠作为新型的氨基酸基螯合剂，有很强的螯合金属离子的能力和良好的溶解性，易生物降解且符合绿色化学的发展要求，将在清洗剂领域中得到越来越多的应用。